半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗解決方案:清洗的好處有哪些,讓鯤鵬精密智能科技來給大家說說看吧
電子清洗技術(shù)(包括清洗劑和相應(yīng)的清洗工藝)對(duì)電子工業(yè)特別是半導(dǎo)體工業(yè)的生產(chǎn)非常重要。在半導(dǎo)體器件和集成電路的制造過程中,幾乎每一道工序都涉及清洗。集成電路的集成度越高,制造工序越多,需要清洗的工序也就越多。在很多清洗工藝中,只要有一道工藝不符合要求,就會(huì)放棄之前的工作,導(dǎo)致整批芯片報(bào)廢。
在芯片制造的過程中,需要專門的水來保證產(chǎn)品的清潔度,而生產(chǎn)后的清洗是保證良率非常重要的一點(diǎn)。
在晶圓生產(chǎn)的整個(gè)過程中,要進(jìn)行多次化學(xué)腐蝕和清洗。每一步蝕刻和清洗后,用水沖洗。由于半導(dǎo)體器件非常容易受到污染,因此必須對(duì)工藝水進(jìn)行相應(yīng)的處理,以達(dá)到一定程度的清潔度。
普通自來水中含有礦物質(zhì)、鹽類、有機(jī)化合物等,會(huì)對(duì)晶圓產(chǎn)生重大影響。
因此,通過反滲透和離子交換系統(tǒng)去除晶圓中使用的水。去除離子的水通常稱為去離子水。正常去離子水在室溫下的電阻為10兆歐,用紫外線去除水中的細(xì) 菌。
半導(dǎo)體清洗技術(shù)是指在氧化、光刻、外延、擴(kuò)散、鉛蒸發(fā)等半導(dǎo)體制造工藝之前,通過物理或化學(xué)方法去除污染物和自氧化物的過程。
污染物是半導(dǎo)體器件性能、可靠性和成品率的主要威脅。研究表明,高達(dá)80%的芯片電氣故障是由污染引起的缺陷造成的。
污染物通常以原子、離子、分子、粒子或膜的形式存在,通過化學(xué)或物理吸附存在于硅片表面或硅片氧化膜中。
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